- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p.ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteurs; matériaux à cet effet; originaux à cet effet; appareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 7/004 - Matériaux photosensibles
Détention brevets de la classe G03F 7/004
Brevets de cette classe: 8634
Historique des publications depuis 10 ans
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705
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252
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2015 | 2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 |
Propriétaires principaux
Proprétaire |
Total
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Cette classe
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FUJIFILM Corporation | 27102 |
1787 |
Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 5132 |
508 |
Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | 1481 |
498 |
JSR Corporation | 2476 |
485 |
Sumitomo Chemical Company, Limited | 8808 |
275 |
Toray Industries, Inc. | 6652 |
238 |
Hitachi Chemical Company, Ltd. | 2455 |
162 |
Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 36809 |
160 |
Rohm and Haas Electronic Materials LLC | 637 |
140 |
Samsung SDI Co., Ltd. | 6671 |
127 |
Taiyo Ink Mfg. Co., Ltd. | 219 |
114 |
LG Chem, Ltd. | 17205 |
112 |
Mitsubishi Chemical Corporation | 4313 |
100 |
Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | 3188 |
98 |
Samsung Electronics Co., Ltd. | 131630 |
90 |
Nissan Chemical Industries, Ltd. | 1822 |
86 |
Merck Patent GmbH | 5909 |
76 |
Tokyo Electron Limited | 11599 |
73 |
Boe Technology Group Co., Ltd. | 35384 |
67 |
Central Glass Company, Limited | 1244 |
66 |
Autres propriétaires | 3372 |